美国OAI 656 紫外光能测量仪规格书

美国OAI 656 紫外光能测量仪是一款先进型紫外曝光分析仪，专门设计用于接触式/近接式掩膜对准曝光机（Contact/Proximity Mask Aligners）以及泛曝光系统（Flood Exposure Systems）。

50多年来，OAI在紫外光和能量测量仪器领域取得了全球、领、先地位，其产品用于半导体、MEMS、晶圆封装以及晶圆凸点制造行业中的光刻工艺，实现可靠、精准、经过校准的工艺控制。

Model 656可存储最多400组曝光测量数据，并配备Ethernet（以太网）和USB接口，用于下载记录的测量数据。

该仪器具有最高达2,000 mW/cm²的光强测量范围。

美国OAI 656 紫外光能测量仪提供多种波长探头，包括：

220nm

248nm

254nm

260nm

310nm

325nm

365nm

380nm

400nm

420nm

436nm

540nm

OAI拥有完整的校准实验室，用于保持测量仪器的性能、质量和可靠性。

Model 656仪表符合NIST标准可追溯要求，并符合RoHS2和CE标准。

产品特点

用于接触式/近接式掩膜对准曝光机（Contact/Proximity Aligners）

极、高的测量准确性和可靠性

可轻松下载测量数据

测量范围最高可达2,000 mW/cm²

内存最多可存储400组测量数据

符合RoHS2和CE标准

产品应用

OAI Model 656 UV Light & Energy Meter用于：

接触式掩膜对准曝光系统

近接式掩膜对准曝光系统

泛曝光系统

适用于：

半导体光刻工艺

MEMS制造工艺

晶圆封装工艺

晶圆凸点制造工艺

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