OAI 659 紫外光强度与能量测量仪规格书

OAI 659 紫外光强度与能量测量仪是OAI推出的一款先进型紫外曝光分析仪，专门用于所有晶圆步进曝光机（Wafer Stepper），包括高强度晶圆步进曝光机（High Intensity Wafer Steppers）。

50多年来，OAI一直是全球紫外光和能量测量仪器领域的领、先企业。Model 659能够为半导体、MEMS、晶圆封装以及晶圆凸点制造行业中的光刻工艺提供可靠、精准、经过校准的控制。

该仪器可存储最多400组曝光测量数据，并配备Ethernet（以太网）和USB接口，可用于下载记录的测量数据。

Model 659具有最高达7,500 mW/cm²的光强测量范围。

该产品提供365nm、400nm、420nm和436nm波长探头。

OAI拥有完整的校准实验室，用于保持其测量仪器的性能、质量和可靠性。

Model 659仪表符合NIST标准可追溯要求，并符合RoHS2和CE标准。

OAI 659 紫外光强度与能量测量仪产品特点

可用于任何晶圆步进曝光机（Wafer Stepper）

极、高的测量准确性和可靠性

适用于高强度晶圆步进曝光机

可轻松下载测量数据

测量范围最高可达7,500 mW/cm²

内存最多可存储400组测量数据

符合RoHS2和CE标准

产品应用

Model 659 UV Light & Energy Meter用于晶圆步进曝光设备的紫外光强度和能量测量。

适用于：

半导体光刻工艺

MEMS制造工艺

晶圆封装工艺

晶圆凸点制造工艺

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