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美国OAI
紫外光强及能量测试仪
美国OAI 656 紫外光能测量仪

产品简介
美国OAI 656 紫外光能测量仪是一款先进型紫外曝光分析仪,专门设计用于接触式/近接式掩膜对准曝光机(Contact/Proximity Mask Aligners)以及泛曝光系统(Flood Exposure Systems)。
产品分类
美国OAI 656 紫外光能测量仪是一款先进型紫外曝光分析仪,专门设计用于接触式/近接式掩膜对准曝光机(Contact/Proximity Mask Aligners)以及泛曝光系统(Flood Exposure Systems)。
50多年来,OAI在紫外光和能量测量仪器领域取得了全球、领、先地位,其产品用于半导体、MEMS、晶圆封装以及晶圆凸点制造行业中的光刻工艺,实现可靠、精准、经过校准的工艺控制。
Model 656可存储最多400组曝光测量数据,并配备Ethernet(以太网)和USB接口,用于下载记录的测量数据。
该仪器具有最高达2,000 mW/cm²的光强测量范围。
美国OAI 656 紫外光能测量仪提供多种波长探头,包括:
220nm
248nm
254nm
260nm
310nm
325nm
365nm
380nm
400nm
420nm
436nm
540nm
OAI拥有完整的校准实验室,用于保持测量仪器的性能、质量和可靠性。
Model 656仪表符合NIST标准可追溯要求,并符合RoHS2和CE标准。
产品特点
用于接触式/近接式掩膜对准曝光机(Contact/Proximity Aligners)
极、高的测量准确性和可靠性
可轻松下载测量数据
测量范围最高可达2,000 mW/cm²
内存最多可存储400组测量数据
符合RoHS2和CE标准
产品应用
OAI Model 656 UV Light & Energy Meter用于:
接触式掩膜对准曝光系统
近接式掩膜对准曝光系统
泛曝光系统
适用于:
半导体光刻工艺
MEMS制造工艺
晶圆封装工艺
晶圆凸点制造工艺
探头(Probes)
探头规格
探头波长(nm)
支持以下波长:
220nm
248nm
254nm
260nm
310nm
325nm
365nm
380nm
400nm
420nm
436nm
540nm
滤光片
采用:
多层吸收/介电滤光片(Multi-layer absorption dielectric filters)
OAI Model 656 UV Light & Energy Meter规格参数
仪表规格(Meter Specifications)
项目参数
用户界面触摸屏
计算机接口可选以太网和USB接口,用于下载记录的测量数据
电源电池供电,采用带充电保护功能的3.7V锂离子电池
充电器电源110-240 VAC
显示设置两个显示界面
显示界面
1. 设置界面(Setup Screen)
显示内容:
以太网地址(Ethernet Address)
日期(Date)
时间(Time)
2. 运行界面(Run Screen)
显示内容:
波长(Wavelength)
光强(Intensity)
时间(Time)
能量剂量(Dose)
探头温度(Probe Temperature)
探头类型(Probe Type)
偏差百分比(Percent of Deviation)
序列号(Serial Number)
校准到期日期(Calibration Due Date)
电池状态(Battery Status)
探头序列号(Probe Serial Number)
充电器状态(Charger Status)
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测量参数
参数规格
存储容量最多400组测量数据
光强范围最高2,000 mW/cm²
光强分辨率0.01 mW/cm²
能量剂量范围最高1000 J/cm²
能量剂量分辨率0.01 mJ/cm²
时间范围最高9999秒
时间分辨率0.0001秒
最小曝光剂量25 ms
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外形尺寸及工作环境
项目参数
尺寸14" × 8.25" × 3.5"
重量3.5 lbs
工作环境15℃~40℃
符合标准RoHS2和CE(EMD及安全)
探头规格(Probe Specifications)
项目参数
探测器硅光电二极管(Silicon photodiode)
可用波长220nm、248nm、254nm、260nm、310nm、325nm、365nm、380nm、400nm、420nm、436nm、540nm
滤光片多层吸收/介电滤光片
光强范围最高2,000 mW/cm²
互换性任意Model 656探头均可用于任意Model 656仪表
符合标准RoHS2和CE(EMD及安全)
产品优势
精准可靠的紫外曝光测量
Model 656能够为光刻工艺提供可靠、准确并经过校准的紫外光强度与能量测量。
专为接触式/近接式掩膜对准曝光系统设计
该仪器专门用于:
Contact Mask Aligners
Proximity Mask Aligners
Flood Exposure Systems
支持多波长测量
提供220nm至540nm范围内多种波长探头选择,可满足不同曝光系统的测量需求。
大容量数据存储
仪器最多可存储400组曝光测量数据。
数据下载功能
通过可选Ethernet和USB接口,可下载记录的测量数据。
OAI Model 656 UV Light & Energy Meter
产品名称:
OAI Model 656 UV Light & Energy Meter
中文名称:
OAI Model 656 紫外光强度与能量测量仪
产品类型:
UV曝光分析仪 / 紫外光强测量仪 / 紫外能量测量仪
主要应用:
接触式/近接式掩膜对准曝光机及泛曝光系统的紫外光强度和能量测量
制造商:
OAI(Optical Associates, Inc.)
选型表: