产品简介

OAI 659 紫外光强度与能量测量仪是美国OAI推出的一款先进型紫外曝光分析仪，专门用于所有晶圆步进曝光机（Wafer Stepper），包括高强度晶圆步进曝光机（High Intensity Wafer Steppers）。Model 659能够为半导体、MEMS、晶圆封装以及晶圆凸点制造行业中的光刻工艺提供可靠、精准、经过校准的控制。

OAI 659 紫外光强度与能量测量仪是OAI推出的一款先进型紫外曝光分析仪，专门用于所有晶圆步进曝光机（Wafer Stepper），包括高强度晶圆步进曝光机（High Intensity Wafer Steppers）。

50多年来，OAI一直是全球紫外光和能量测量仪器领域的领、先企业。Model 659能够为半导体、MEMS、晶圆封装以及晶圆凸点制造行业中的光刻工艺提供可靠、精准、经过校准的控制。

该仪器可存储最多400组曝光测量数据，并配备Ethernet（以太网）和USB接口，可用于下载记录的测量数据。

Model 659具有最高达7,500 mW/cm²的光强测量范围。

该产品提供365nm、400nm、420nm和436nm波长探头。

OAI拥有完整的校准实验室，用于保持其测量仪器的性能、质量和可靠性。

Model 659仪表符合NIST标准可追溯要求，并符合RoHS2和CE标准。

OAI 659 紫外光强度与能量测量仪产品特点

可用于任何晶圆步进曝光机（Wafer Stepper）

极、高的测量准确性和可靠性

适用于高强度晶圆步进曝光机

可轻松下载测量数据

测量范围最高可达7,500 mW/cm²

内存最多可存储400组测量数据

符合RoHS2和CE标准

产品应用

Model 659 UV Light & Energy Meter用于晶圆步进曝光设备的紫外光强度和能量测量。

适用于：

半导体光刻工艺

MEMS制造工艺

晶圆封装工艺

晶圆凸点制造工艺

该仪器用于对光刻曝光过程提供可靠、精准、经过校准的测量控制。

探头（Probes）

探头特点

根据每种晶圆步进曝光机设计，可安装于曝光机工作台（Stage）上

探头波长（nm）：

365 nm

400 nm

420 nm

436 nm

采用多层吸收/介电滤光片（Multi-layer absorption/dielectric filters）

可与任何OAI Model 659仪表互换使用

OAI Model 659 UV Light & Energy Meter规格参数

仪表规格（Meter Specifications）

项目参数

用户界面触摸屏

计算机接口可选以太网和USB接口，用于下载记录的测量数据

电源电池供电，采用带充电保护功能的3.7V锂离子电池

充电器电源110-240 VAC

显示设置两个显示界面

显示界面

1. 设置界面（Setup Screen）

显示内容：

以太网地址（Ethernet Address）

日期（Date）

时间（Time）

2. 运行界面（Run Screen）

显示内容：

波长（Wavelength）

光强（Intensity）

时间（Time）

能量剂量（Dose）

探头温度（Probe Temperature）

探头类型（Probe Type）

偏差百分比（Percent of Deviation）

序列号（Serial Number）

校准到期日期（Calibration Due Date）

电池状态（Battery Status）

探头序列号（Probe Serial Number）

充电器状态（Charger Status）

测量参数：

外形尺寸及工作环境

项目参数

尺寸14" × 8.25" × 3.5"

重量3.5 lbs

工作环境温度15℃～40℃

符合标准RoHS2和CE（EMD及安全）

探头规格（Probe Specifications）

项目参数

探测器硅光电二极管（Silicon photodiode）

可用波长（nm）365、400、420、436

滤光片多层吸收/介电滤光片

光强范围最高7,500 mW/cm²

互换性任意Model 659探头均可用于任意Model 659仪表

符合标准RoHS2和CE（EMD及安全）

产品优势

精准可靠的紫外曝光测量

Model 659为晶圆步进曝光设备设计，可提供可靠、准确并经过校准的紫外光强度和能量测量。

支持高强度曝光设备

该仪器专门设计用于所有晶圆步进曝光机，包括高强度晶圆步进曝光机。

大容量数据存储

设备内部可存储最多400组曝光测量数据，方便记录和管理测试结果。

支持USB及以太网数据下载

通过Ethernet和USB接口，可下载记录的测量数据。

多波长探头选择

提供365nm、400nm、420nm和436nm波长探头，可满足不同晶圆步进曝光设备测量需求。